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张学良多高,少帅张学良多高 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家(jiā)知识(shí)产权局局(jú)长(zhǎng)申长雨在新(xīn)闻发布会上表示(shì),将统筹(chóu)推(tuī)进(jìn)各类(lèi)知识产权法(fǎ)律法规和(hé)制度规则(zé)的制修订工作。其中,修(xiū)改完善(shàn)集(jí)成电路布图设计保护条(tiáo)例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做(zuò)强,服务数(shù)字经(jīng)济更(gèng)好发展(zhǎn)。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基因技术(shù)等新领域新(xīn)业态知识产权(quán)规则研究,助力相关领域(yù)创新(xīn)发展。同时(shí),积极参与知识(shí)产权国(guó)际规则制定(dìng),更好(hǎo)对(duì)接(jiē)高标准国际张学良多高,少帅张学良多高经贸规则(zé),助(zhù)力高水平对(duì)外开放。

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